탄탈륨 스퍼터링 타겟

탄탈륨(Ta)은 고성장 반도체 산업의 마이크로칩 아키텍처에 중요한 내화성 금속입니다. 고순도 탄탈륨 타겟은 실리콘 웨이퍼에 미세한 탄탈륨 층을 스퍼터링하는 데 사용되므로 고급 노드 아키텍처와 더 높은 성능을 갖춘 차세대 반도체 논리 칩을 제조할 수 있습니다.

탄탈륨은 주기율표에서 전이금속으로 분류되며 내식성이 가장 뛰어난 내화금속 중 하나로 간주됩니다. 탄탈륨의 녹는점은 3,017도, 밀도는 16.6g/cc, 증기압은 2,590도에서 10-4Torr입니다. 금속성 회청색을 띠고 화학적으로 놀랍게도 니오븀과 유사합니다. 무독성 특성으로 인해 주로 수술용 임플란트 제조에 사용됩니다. 또한 전자 제품의 커패시터로도 사용되며 강도와 내구성을 높이기 위해 다른 금속과 합금할 수 있습니다. 탄탈륨과 그 합금 및 화합물은 진공 상태에서 증발되어 반도체, 광학 코팅, 자기 저장 매체, 내마모성 및 부식 방지 코팅을 만듭니다.

최고 품질의 금속 제품

탄탈륨(Ta) 사양

2008년에 설립된 이 회사는 수년에 걸쳐 다양한 산업 분야에 서비스를 제공하는 금속 제품의 선도적인 제조업체 및 공급업체로 성장했습니다. 회사는 제품의 품질과 내구성을 향상시키기 위해 끊임없이 연구개발에 투자하고 있습니다. 이 회사는 고객 만족에 중점을 두고 있으며 고품질 제품과 우수한 고객 서비스를 제공하는 것으로 알려져 있습니다. 현재 이 회사는 전 세계적으로 입지를 넓혀 전 세계 국가의 고객에게 서비스를 제공하고 있습니다.

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