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니오븀 잉곳(Nb Ingot)은 융점이 높고 내식성이 우수하며 가공성이 좋습니다. 제약, 반도체, 항공우주, 원자력 등에 사용되는 밀링 제품으로 만들 수 있습니다.
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탄탈산칼륨, KTaO3 기질, KTaO3 단결정은 페로브스카이트 구조와 파이로클로어를 갖는 새로운 결정체로서 초전도박막 응용 분야에서 폭넓은 시장 전망을 가지고 있습니다. KTaO3 결정은 절대 영도에서 녹는점(1645K)까지 상 변화가 없고...
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탄탈륨 단결정 응용 1. 전자 제품 및 반도체: 탄탈륨 단결정은 커패시터, 반도체 및 집적 회로와 같은 전자 부품 생산에 사용됩니다. 우수한 전기 절연성과 안정성으로 인해 이러한 분야에 신뢰할 수 있는 소재입니다...
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탄탈륨(Ta)은 고성장 반도체 산업의 마이크로칩 아키텍처에 중요한 내화성 금속입니다. 고순도 탄탈륨 타겟은 실리콘 웨이퍼에 미세한 탄탈륨 층을 스퍼터링하는 데 사용되어 차세대 반도체 로직 제조를 가능하게 합니다.
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탄탈륨 모세관은 높은 융점, 낮은 증기압 및 우수한 전기적 특성으로 인해 전자 장비에서 중요한 역할을 합니다. 전자 부품, 집적 회로 연결 전선, 고정밀 전자 튜브 등의 제조에 사용됩니다.
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GNEE는 화학 기상 증착(CVD) 및 물리 기상 증착(PVD) 공정에 사용하기 위해 밀도가 가장 높고 평균 입자 크기가 가장 작은 고순도 탄탈륨 연탄 생산을 전문으로 합니다. 당사의 표준 너겟은 크기 범위가 5-15 mm인 무정형의 균질 너겟입니다. 블록은 결정화, 고체 상태 및 승화와 같은 기타 초고정제 공정을 통해 생산됩니다.
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자료: 순수한 탄탈륨. UNS 번호: R05200, R05400. 크기: OD: 1.0~150mm, 무게: 0.1~5mm, 길이: 10mm~6000mm. 순도: 99.95%, 99.995 이상. 표준: ASTM B521. 상태: 단단함, 반경질, 약함
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순수 금속은 전자 산업에서 다양한 유형의 전자 장치(예: 정류기, 커패시터, 필라멘트 등)를 만드는 데 사용됩니다. 탄탈륨은 잔류 가스 흡수율이 높기 때문에 진공 시스템에도 사용됩니다. 또한 내식성, 강도 및 연성이 우수한 합금을 생성하기 위해 니켈 및 몰리브덴과 같은 합금 원소로도 사용됩니다.
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탄탈륨은 일반적으로 고온 진공로에 사용됩니다. 많은 경우에 이는 차폐나 지지 구조로 사용될 뿐만 아니라 발열체 자체로도 사용되는 경우가 많습니다. GNEE는 재료의 크기와 모양에 따라 다양한 유형의 입자 안정화 탄탈륨을 제공하여 용광로에서 재료의 수명을 늘릴 수 있습니다.
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1.등급: R05200, R05400, R05255, R05252, R05240. 2. 플레이트, 시트, 스트립 크기:150-1000mm x 150-3000mm x 0.13 -10mm
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